了解這些誤區(qū)，專利申請更順利！

現(xiàn)在知識產權的糾紛越來越多，也愈演愈烈。主要是因為大家都意識到了其重要性，雖然不排除一小部分是惡意為之。在這日益激烈的知產圈，我們在進行專利申請的時候應該如何避開誤區(qū)，保證能夠順利申請呢？

一、專利申請誤區(qū)

1、產品面世后才申請專利？錯！

很多的企業(yè)認為：技術方案還未投入生產，沒有產品面世，申請專利太早，等產品大規(guī)模投入生產再申請也來得及。

這個想法是錯誤的。其實專利申請的基礎并不表現(xiàn)于市場上存在產品，也不是要有成型的產品。只要有了切實可行的想法，就可以開始準備專利申請的文件撰寫了。

2、技術方案不能全部交代？錯！

不少的專利權人在撰寫技術方案時一味的想著保密，害怕公開太多的技術信息，卻忽略了太過的保密就可能會導致公開不充分的問題。

同時，草草了事的技術交底書也會給專利代理人撰寫制作正式專利申請文件帶來很大的困難。所以專利權利人在撰寫技術方案的時候一定要把握好保密與公開的度。

3、同個產品只能申請一個專利？錯！

產品不一定只擁有一個專利，而是可能擁有多方面的專利，比如外觀專利、實用新型專利等等。如果申請人只申請了一項專利，很有可能導致其他部分的專利被他人注冊。而三種專利，保護的側重點是不一樣的，少一個就可能導致申請人的產品或服務侵權。

4、產品更新?lián)Q代無需重新申請？錯！

有的企業(yè)已經申請了一項專利，就認為可以高枕無憂了，其實在后期的繼續(xù)研發(fā)中，開發(fā)出的新產品或者是對先前的產品有任何改進，都是需要重新再申請專利的。不然這個產品還是處于沒有專利的情況。

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